光刻胶是什么？
光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
光刻胶可以承受多少度高温？
光刻胶可以承受200度高温
光刻胶的密度 1.25g/cm3
熔点 200-204℃
沸点 771.3°C at 760 mmHg
闪点 420.3°C
蒸汽压 8.98E-23mmHg at 25°C
折射率 1.675
物化性质 熔点200-204°C。
国内技术水平最高的光刻胶企业？
南大光电。
在光刻胶方面，公司建立了专业的研发团队，已搭建大规模的研发中心与百升级光刻胶中试生产线，产品研发进展和成果均获得业界专家的认可，其次，公司具有研制功能单体和功能树脂等光刻胶材料的能力，已研发的多款先进光刻胶产品在客户端的评估中获得好评。
光刻胶世界十大排名？
一、晶瑞电材：
公司作为国内高新技术企业，在微电子化学品的研究开发与生产当中一直处于行业领先位置，其核心产品主要包括光刻胶、功能性材料等。
二、新莱应材：
公司的核心产品均能应用于光刻胶设备当中，其客户群体当中就含有光刻胶设备制造商。
三、芯源微：
产品包括光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备。
光刻胶是什么提取的？
光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。
半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。
电子胶和光刻胶区别？
光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的，以后才用于电子工业。 光刻胶是一种有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，而后被干燥成胶膜。
是一个广泛的称呼,
用于电子元器件的粘接,密封,灌封和涂覆保护
室温硫化硅橡胶或有机硅凝胶用于电子电气元件的灌封，可以起到防潮、防尘、防腐蚀、防震的作用，并提高使用性能和稳定参数，而且其在硫化前是液体，便于灌注，使用方便。应用有机硅凝胶进行灌封时，不放出低分子，无应力收缩，可深层硫化，无任何腐蚀，硫化后成透明弹性体，对胶层里所封装的元器件清晰可见，可以用针刺到里面逐个测量元件参数，便于检测与返修。室温硫化的泡沫硅橡胶用于电子计算机内存储器磁芯板，经震动、冲击、冷热交变等多项测试完全符合要求。加成型室温硫化硅橡胶的基础上制得的耐燃灌封胶，用于电视机高压帽及高压电缆包皮等制品的模制非常有效。对于不需要进行密闭封装或不便进行浸渍和灌封保护时，可采用单组分室温硫化硅橡胶作为表面涂覆保护材料。一般电子元器件的表面保护涂覆均用室温硫化硅橡胶，用加成型有机硅凝胶进行内涂覆。近年来，玻璃树脂涂覆电子电器及仪表元件的应用较为广泛。
光刻胶需要脱泡吗？
不需要
光刻工艺主要步骤1. 基片前处理为确保光刻胶能和晶圆表面很好粘贴，形成平滑且结合得很好的膜，必须进行表面准备，保持表面干燥且干净，2. 涂光刻胶涂胶的目标是在晶圆表面建立薄的、均匀的，并且没有缺陷的光刻胶膜。
3. 前烘(软烘焙)前烘的目的是去除胶层内的溶剂，提高光刻胶与衬底的粘附力及胶膜的机械擦伤能力。
4. 对准和曝光(A＆E) 保证器件和电路正常工作的决定性因素是图形的准确对准，以及光刻胶上精确的图形尺寸的形成。
所以，涂好光刻胶后，第一步是把所需图形在晶圆表面上准确定位或对准。
第二步是通过曝光将图形转移到光刻胶涂层上。
5. 显影显影是指把掩膜版图案复制到光刻胶上。
6. 后烘(坚膜)经显影以后的胶膜发生了软化、膨胀，胶膜与硅片表面粘附力下降。为了保证下一道刻蚀工序能顺利进行，使光刻胶和晶圆表面更好地粘结，必须继续蒸发溶剂以固化光刻胶。
7. 刻蚀刻蚀是通过光刻胶暴露区域来去掉晶圆最表层的工艺，主要目标是将光刻掩膜版上的图案精确地转移到晶圆表面。
8. 去除光刻胶刻蚀之后，图案成为晶圆最表层永久的一部分。
作为刻蚀阻挡层的光刻胶层不再需要了，必须从表面去掉。
国产光刻胶龙头企业？
晶瑞电材:公司亮点：国内最早规模量产光刻胶的少数几家企业之一。
2.南大光电:公司亮点：MO源产业化生产的企业。
3.容大感光:公司亮点：行业内生产PCB感光油墨产品品种最为齐全的企业之一。
4.江化微:公司亮点：国内湿电子化学品龙头。
5.上海新阳:公司亮点：主营半导体行业所需电子化学品，同时参股子公司已量产大硅片。
6.彤程新材:公司亮点：中国最大的特种橡胶助剂生产商之一。
7.飞凯材料:公司亮点：我国主要的光纤光缆涂覆材料供应商之一。
光刻胶什么用途？
光刻胶，又称光致抗蚀剂，具有光化学敏感性。
它的用途是在光的照射下溶解度发生变化，一般以液态涂覆在半导体、导体等基片表面上，曝光烘烤后成固态，它可以实现从掩膜版到基片上的图形转移，在后续的处理工序中保护基片不受侵蚀，是微细加工技术中的关键材料。
使用领域：印刷电路板、液晶显示器、半导体集成电路、是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一。
国产光刻胶是什么水平？
国产光刻胶占有一定的量，但大部分是低等用于生产低端PCB板用的光刻胶。
全球光刻胶2020年已经达到了 21 亿美元，同比增长超过 20%；而国内半导体光刻胶市场从 2015 年的 1.3 亿美元增长至 2020 年的 3.5 亿美元。国内晶圆代工厂近年来飞速发展直接造就了全球，特别是国内光刻胶市场的高速发展。国内光刻胶产业链，半导体光刻胶的占比仅有 2%，LCD 仅为 3%，而最为简单 PCB 光刻胶占比高达 94%。纵观全球无论是 PCB、面板、及半导体的光刻胶供应格局，均还是以海外供应商为主其中日本占据了绝对龙头。
